對于基于量子點（QDs）的新型顯示技術，實現高精度的紅、綠、藍像素陣列一直是追求高質量、生動圖像顯示的研究重點。然而，材料穩定性和工藝環境等問題使高精度圖案的質量難以保證。以直接光刻為代表的新型光學圖案化技術被認為是在亞微米水平上實現超細圖案的一種有效方法。該工藝通過光誘導的化學變化制備出圖案化的量子點聚合物膜。近日，南京理工大學Lu Jian、Zeng Haibo、Chen Jun綜述了QD聚合物材料的直接光刻研究進展，并介紹了單色/多色光圖案化工藝的最新進展。
本文要點：
1) 作者通過將量子點與聚合物以不同的方式結合，將量子點聚合物分為三類，包括聚合物包覆的量子點、作為量子點配體的聚合物和作為量子點光交聯劑的聚合物。作者還介紹了它們的合成方案、功能特征和挑戰。
2) 此外，作者還提出了一種在使用激光和光場調制的直接光刻過程中去除光掩模的方案。旨在為研究者提供一些通用的研究信息和改進思路，從而可以進一步推動QD聚合物直接光刻技術的發展。
Weishu Guo et.al Direct Photolithography Patterning of Quantum Dot-Polymer AFM 2023
DOI: 10.1002/adfm.202310338
https://doi.org/10.1002/adfm.202310338
