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化學(xué)所Angew:Cu離子促進(jìn)BiVO4光電催化氨氧化
納米技術(shù) 納米 2023-12-09

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通過半導(dǎo)體光電極進(jìn)行高活性光電催化氨氧化反應(yīng)是非常大的挑戰(zhàn)。有鑒于此,中國科學(xué)院化學(xué)所章宇超等發(fā)展一種非常簡單的方法,這種方法通過向NH3溶液引入ppm量級(jí)Cu離子(0.5~10 mg/L)顯著的改善氨催化氧化反應(yīng)的性能。相比于本征BiVO4的性能,引入Cu離子能夠?qū)毖趸怆娏鲝?.4 mA cm-2提高為6.3 mA cm-2,這個(gè)數(shù)值與BiVO4的理論最大光電流非常接近。

本文要點(diǎn):

(1)

施加0.8 V偏壓,光電極表面電荷分離性能提高90 %。氨氧化反應(yīng)的法拉第效率高達(dá)93.8 %,同時(shí)水氧化反應(yīng)能夠顯著抑制。氨氧化反應(yīng)的主要產(chǎn)物是N2,溶液的N2的法拉第效率達(dá)到71.1 %,非溶液的N2法拉第效率能夠達(dá)到100 %。

(2)

理論計(jì)算進(jìn)行機(jī)理研究,結(jié)果顯示Cu能夠在BiVO4光電極表面生成Cu-NH3物種,Cu-NH3更容易吸附在BiVO4表面,因此有效的阻礙水氧化反應(yīng)。通過BiVO4表面效應(yīng)和Cu配位效應(yīng)之間的配合,活化N-H化學(xué)鍵,加快氨氧化反應(yīng)的質(zhì)子耦合電子轉(zhuǎn)移的反應(yīng)決速步驟。這種簡單的策略可能用于其他光電極催化或者電催化。

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參考文獻(xiàn)

Lei Wu, Qianqian Li, Kun Dang, Daojian Tang, ChunCheng Chen, Yuchao Zhang, Jincai Zhao, Highly Selective Ammonia Oxidation on BiVO4 Photoanodes Co-catalyzed by Trace Amounts of Copper Ions, Angew. Chem. Int. Ed. 2023

DOI: 10.1002/anie.202316218

https://onlinelibrary.wiley.com/doi/full/10.1002/anie.202316218




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