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Adv Mater:共面超薄Ir/C應力納米片HER催化
納米技術 納米 2023-12-22

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發展高活性的穩定HER催化劑對于解決商用PEM電解槽面臨的挑戰非常重要。

有鑒于此,青島科技大學賴建平首次合成了超薄的Ir/C共面納米片制氫催化劑,這種催化劑含有豐富的frank粒子畸變結構,產生顯著的壓縮應力,從而顯著提高電催化制氫性能。合成的催化劑能夠在大電流和PEM電解槽進行電催化HER,表現非常好的穩定性。

本文要點

(1)

這種超薄Ir/C納米片(Dr-Ir/C)的合成是由>1200 ℃進行非平衡態高溫熱沖擊法(nonequilibrium high-temperature thermal shock method)并且使用KBr模板輔助的策略。合成的Dr-Ir/C催化劑具有優異的HER催化活性,在50 mV過電勢的質量活性高達6.64 A mg-1,是目前各種報道的Ir催化劑性能最高的。

(2)

Dr-Ir/C催化劑在1 A cm-2電流密度的PEM電解槽能夠穩定工作200 h,而且在電催化反應之后,催化劑保留了超薄共面納米片結構,表現了優異的防堆疊和抗團聚能力。通過分析晶相和理論計算研究,說明Frank位錯(Frank partial dislocations)產生4 %的壓縮應力,壓縮應力能夠降低H*吸附能,提高催化劑的本征催化活性。


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參考文獻

Pengfei Liu, Xin Zhang, Jiawei Fei, Yue Shi, Jiawei Zhu, Dan Zhang, Liang Zhao, Lei Wang, Jianping Lai, Frank Partial Dislocations in Coplanar Ir/C Ultrathin Nanosheets Boost Hydrogen Evolution Reaction, Adv. Mater. 2023

DOI: 10.1002/adma.202310591

https://onlinelibrary.wiley.com/doi/full/10.1002/adma.202310591


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