基于紡織品的可穿戴電子產品因其獨特的三維多孔結構所固有的出色柔韌性和透氣性而引起了廣泛的研究興趣。然而，挑戰之一在于在不犧牲佩戴舒適性的情況下實現具有高精度和魯棒性的高導電性圖案。
香港理工大學Zijian Zheng、Qiyao Huang和南方科技大學Yuanjing Lin等開發了一種通用且強大的織物內光刻策略，用于在多孔織物結構上進行精確和均勻的金屬圖案化。
本文要點：
（1）
制造的金屬圖案實現了低于100 μm的高精度，具有理想的機械穩定性、可洗性和滲透性。此外，滲透到紡織品支架內部的這種可控涂層有助于通過紡織品的兩側顯著提高小型化設備和電子集成的性能。作為概念驗證，展示了一個用于多路汗液傳感的完全集成的紡織品內系統。
（2）
所提出的方法為構建具有可靠性能和佩戴舒適性的多功能紡織品基柔性電子產品開辟了新的可能性。
參考文獻:
Wang, P., Ma, X., Lin, Z. et al. Well-defined in-textile photolithography towards permeable textile electronics. Nat Commun 15, 887 (2024).
DOI: 10.1038/s41467-024-45287-y
https://doi.org/10.1038/s41467-024-45287-y
