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ACS Nano:用于制造3D微結(jié)構(gòu)的超薄可變形石墨烯蝕刻掩模
Nanoyu Nanoyu 2024-05-01

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三維 (3D) 微加工技術(shù)在各個研究領(lǐng)域發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。這些技術(shù)能夠在微尺度上創(chuàng)建功能性3D結(jié)構(gòu),從而釋放多種應用的可能性。然而,傳統(tǒng)的制造方法在生產(chǎn)復雜的 3D 結(jié)構(gòu)方面存在局限性,這需要大量的制造步驟,從而增加了成本。

近日,首爾大學Gwan-Hyoung Lee報道了一種使用石墨烯作為可變形蝕刻掩模來制造復雜3D微結(jié)構(gòu)的技術(shù)。

文章要點

1化學氣相沉積(CVD)直接在硅襯底上生長的石墨烯對XeF2氣體具有良好的耐氣性,是一種很好的刻蝕掩模材料。此外,石墨烯的超薄和柔性特性使其能夠與底層結(jié)構(gòu)保持一致,從而能夠生產(chǎn)出以前需要復雜程序的復雜設計。此外,將靈活的石墨烯掩模與各種圖案設計相結(jié)合,有助于生產(chǎn)具有可控刻蝕深度的復雜3D結(jié)構(gòu)。

2作為不同應用的一個例子,研究人員使用可變形的石墨烯刻蝕掩模在具有可重入結(jié)構(gòu)陣列的硅襯底上制備了無所不包的表面。

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參考文獻

Jiwoo Kim, et al, Ultrathin and Deformable Graphene Etch Mask for Fabrication of 3D Microstructures, ACS Nano, 2024

DOI: 10.1021/acsnano.4c01279

https://doi.org/10.1021/acsnano.4c01279


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