超高場(UHF)磁共振成像(MRI)是一項重要的生物醫學成像技術，但其仍難以避免錯誤的成像信號的產生。盡管雙模態造影劑能夠改善常規MRI的性能，但高磁矩也會導致其在UHF中的應用效果不夠理想，使其T1弛豫值降低，T2弛豫值發生過度增強。有鑒于此，上海交通大學凌代舜教授和李方園研究員制備了一種DNA介導的磁-二聚體組裝(DMA)的氧化鐵納米粒子，其可利用為UHF定制納米磁性實現無錯UHF-MRI。
本文要點：
（1）DMA在9 T磁場中的縱向弛豫率為4.42 mM?1·s?1，橫向弛豫率為26.23 mM?1·s?1，是一種典型的T1-T2雙模態UHF-MRI造影劑。
（2）實驗結果表明，DMA可利用T1-T2雙模態圖像融合實現無偽影的乳腺癌可視化，能夠以極高的精度有效地過濾來自百微米級假陽性信號的干擾。綜上所述，這種為UHF定制的T1-T2雙模態造影劑DMA有望進一步提高MRI在疾病診斷應用中的準確性。
Xun Liu. et al. DNA-Mediated Magnetic-Dimer Assembly for Fault-Free Ultra-High-Field Magnetic Resonance Imaging of Tumors. Nano Letters. 2024
DOI: 10.1021/acs.nanolett.4c01389
https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acs.nanolett.4c01389
