膠質母細胞瘤是腦腫瘤中最常見、最具破壞性的腫瘤，具有高侵襲性和高頻耐藥性。基于聚合物發光原的近紅外二區（NIR-II）成像引導的光學療法為治療耐藥膠質瘤提供了一種可行的策略，但如何最大限度地利用光能仍是一項亟待解決的難題。有鑒于此，香港中文大學（深圳）唐本忠院士、河南大學師冰洋教授、王杰菲教授和深圳大學韓婷教授設計了一系列半導體聚合物，并將其用于實現膠質母細胞瘤的可視化和消融。
本文要點：
（1）實驗通過在吩噻嗪和噻吩基團上巧妙地設計側鏈和取代基構建了具有優異的熒光性能、良好的溶解度、優越的光熱轉化效率和平衡的活性氧生成活性的NIR-II聚合物發光原。該最佳聚合物具有支化烷基鏈和四苯基乙烯懸垂，可以調控輻射和非輻射能量耗散通道之間的平衡。
（2）實驗采用高靈敏度NIR-II成像技術實現了對載脂蛋白e修飾的聚合物納米顆粒穿透血腦屏障和靶向膠質瘤細胞的監測。綜上所述，該研究開發的NIR-II聚合物光學診療納米平臺能夠實現對原位耐藥膠質母細胞瘤的光動力/光熱協同治療和最大化的光子利用效率。
Xiang Su. et al. A Brain-Targeting NIR-II Polymeric Phototheranostic Nanoplatform toward Orthotopic Drug-Resistant Glioblastoma. Nano Letters. 2025
DOI: 10.1021/acs.nanolett.4c05470
https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acs.nanolett.4c05470
